1. 光學(xué)實(shí)驗(yàn)室

o 要求：溫度一般控制在 20 - 25℃，波動(dòng)范圍盡量控制在±2℃以內(nèi)。

o 原因：光學(xué)儀器中的光學(xué)元件如鏡片、棱鏡等，其折射率和熱膨脹系數(shù)會(huì)隨溫度變化而改變。溫度波動(dòng)過大可能導(dǎo)致光學(xué)元件的變形，影響光路的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性，進(jìn)而降低光學(xué)儀器的成像質(zhì)量和測量精度。例如，在使用干涉儀進(jìn)行精密測量時(shí)，溫度的變化會(huì)使干涉條紋發(fā)生移動(dòng)，導(dǎo)致測量結(jié)果出現(xiàn)較大誤差。同時(shí)，溫度變化還可能引起空氣折射率的改變，對光學(xué)傳播路徑產(chǎn)生影響。

2. 低溫物理實(shí)驗(yàn)室

o 要求：根據(jù)研究目的，需要達(dá)到極低的溫度，如接近絕對零度（ - 273.15℃）。常見的低溫實(shí)驗(yàn)溫度有液氮溫度（ - 196℃）、液氦溫度（ - 269℃）等。

o 原因：在低溫條件下，許多物質(zhì)會(huì)展現(xiàn)出獨(dú)特的物理性質(zhì)，如某些金屬材料會(huì)出現(xiàn)超導(dǎo)現(xiàn)象，即電阻突然消失。研究這些低溫物理現(xiàn)象對于探索物質(zhì)的微觀結(jié)構(gòu)和基本物理規(guī)律具有重要意義。通過精確控制低溫環(huán)境，可以深入研究物質(zhì)在極端條件下的電子態(tài)、磁學(xué)性質(zhì)、熱學(xué)性質(zhì)等，為材料科學(xué)、能源科學(xué)等領(lǐng)域的發(fā)展提供理論基礎(chǔ)和技術(shù)支持。

3. 高溫物理實(shí)驗(yàn)室

o 要求：溫度可高達(dá)數(shù)千攝氏度。例如，在研究高溫等離子體物理時(shí)，等離子體的溫度可達(dá)到 10^6 - 10^8℃；而在一些材料的高溫物理性能測試實(shí)驗(yàn)中，溫度可能在 1000 - 3000℃之間。

o 原因：高溫條件可以改變物質(zhì)的相態(tài)和原子結(jié)構(gòu)，引發(fā)新的物理現(xiàn)象和過程。在高溫下，物質(zhì)會(huì)發(fā)生電離形成等離子體，研究高溫等離子體對于核聚變、天體物理等領(lǐng)域具有重要意義。同時(shí)，通過對材料在高溫下的力學(xué)性能、電學(xué)性能、光學(xué)性能等進(jìn)行研究，可以為航空航天、能源等領(lǐng)域開發(fā)耐高溫材料提供依據(jù)。